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膜厚及不均勻性

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設(shè)備:膜厚儀F50-XT/ F50-UV

廠商:FILMETRICS

用途:依靠F50的光譜測量系統(tǒng),可以很簡單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標移動平臺,可以非常快速的定位所需測試的點并測試厚度。

技術(shù)指標:

l  最大適用4英寸晶圓測試,最大測試范圍0-10um

l  測量nk值最小厚度要求:50nm

l  波長范圍:190-1100nm

l  準確度:0.2%1nm

l  精度:0.02nm

l  穩(wěn)定性:0.05nm


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